Нынешняя технология использует свет для переноса схемы при производстве чипов. По словам исследователей, фотолитография в теории позволяет достичь размера элемента микросхемы в 22 нанометра. Пока выпускаются микросхемы, созданные с использованием 45-нанометрового технологического процесса.
Предложенная исследователями из IBM совместно с учеными из Калифорнийского технологического института схема предполагает укладку на кремниевую подложку отдельных молекул ДНК и использование их в качестве шаблонов для сборки электронных компонентов. Размеры ДНК-элементов при этом могут составлять всего от четырех до шести нанометров.
В течение уже сорока лет микроэлектронная отрасль подчиняется закону Мура, который гласит, что число транзисторов на интегральной схеме каждые два года удваивается при сохранении стоимости. Доведение новой технологии до рабочего состояния потребует, по оценкам ученых, от 10 до 20 лет.